大定源方式下发射框内外不同测点的场是不同的，除中心点以外，其它测点的场都是非均匀场，观测的数据比较复杂，不能采用简单的均匀场处理方式，而是要根据发射框与测点的相对位置计算出二次场的分布。下面用一个试验来说明这一问题。
        设地面有一个100m×100m的正方形发射框，观测沿穿过中心点且与任意边平行的直线上进行，那么观测到的一次场响应将如下图所示。特点：(a)一次场在发射框内外极性相反，极性改变发生在框边处。(b)发射框中心大约1/3的范围内一次场比较均匀，距离框边越近，不均匀性越强。距离框边20m的范围内一次场变化最为剧烈。

                     
                                 
        需要指出的是，虽然框边的影响可以通过理论计算进行消除，但由于实际地形的复杂性以及发射框布设的不规则性，框边的影响并不能从理论上完全消除。

        这就是上边建议观测在框内进行，且要求测点距离框边大于20m的原因。

        实际上，发射框越大，测点离开框边的距离也要越大，一般情况下，建议测点离开框边的距离大于框边长度的1/4。
        鉴于以上情况，处理大定源数据的软件必须要能够精确计算框边效应，也就是说要能够精确计算空间任意一点TEM响应的不均匀性。下面用一个实例说明考虑框边影响和不考虑框边影响对解释结果的影响。下图是对同一测线的数据采用两种方法处理的结果对比
        (a)未考虑框边影响：剖面的两端靠近框边的地方向下弯曲，整条剖面形成一个拱形。而实际上地下的结构是一个比较平缓的斜面。
        (b)考虑框边影响：剖面两端的弯曲显著减弱，整条剖面基本形成一个斜面，比较符合实际情况。
 
         由此可见，大定源方式下框边的影响是相当严重的，处理解释时一定要非常谨慎。